Intel Ice Lake i Cannon Lake w 2018 roku?
Kiedy terminy są przesuwane a kolejka nadchodzących mikroarchitektur się spiętrza, łatwo o pomyłkę a przede wszystkim idzie się w tym wszystkim pogubić. Wobec tego zacznę od uporządkowanie tej kwestii i odniesienia się do sytuacji na chwilę obecną.
Na rynku króluje obecnie Kaby Lake (14 nm+), która ma zostać zastąpiona przez mikroarchitekturę Coffee Lake (14 nm++, może już po wakacjach) opartą o tą samą litografię. Przed nimi były jeszcze mikroarchitektury Skylake (14 nm) i Broadwell (14 nm). Widać jasno, że litografia ta została wykorzystana do granic możliwości.
Bardziej odległe ale i ciekawsze jest to, co nastanie po Coffee Lake. Mianowicie ma się wtedy pojawić mikroarchitektura Cannonlake (pierwotnie Skymont). Pierwszy raz zostanie tu zastosowana litografia 10 nm, która będzie wykorzystywana także w mikroarchitekturze Ice Lake (10 nm+, kolejna generacja względem Cannonlake).
Co więcej, firma Intel planuje rozdzielenie harmonogramu szykowanego dla komputerów stacjonarnych i tego, co funkcjonuje na rynku laptopów. Rozumieć przez to należy tyle, że każdy z nich pójdzie własną drogą. Obecnie mówi się o tym, że w czasie, gdy dla komputerów stacjonarnych zostaną zaoferowane procesory oparte o Kaby Lake i Coffee Lake w litografii 14 nm, dla laptopów zostaną przygotowane jednostki centralne Coffee Lake (14 nm++) oraz Cannon Lake (10 nm).
Rozwijając poprzedni akapit - spekulacje mówią o tym, że w energooszczędnym procesorze z TDP poniżej 15 W korzyści ze stosowania Cannon Lake będą oczywiste. W tych z TDP wynoszącym 35 W i więcej na początek większy sens ma mieć stosowanie sprawdzonej mikroarchitektury Coffee Lake. Oczywiście pamiętać należy o tym, że nowa litografia (w tym wypadku przejście z 14 nm na 10 nm) to zwykle mocno ograniczone moce przerobowe po stronie fabryki (choćby fakt, że wyposażenie każdej z nich w nowy sprzęt jest bardzo kosztowne).
Ma być to chwilowe i wraz z nadejściem mikroarchitektury Ice Lake (10 nm+) pojawią się jednostki CPU zarówno dla komputerów stacjonarnych jak i dla laptopów. Co należy odczytywać w ten sposób, że zaawansowana technologia wytwarzania (extreme UV z pomocą multipatterning) zostanie opanowana na tyle dobrze, że będą dostępne większe wolumeny produktu końcowego a optymalizacje dokonane w samej architekturze wyeliminują błędy wieku dziecięcego stwierdzone za czasów Cannon Lake.
Źródło: Ars Technica
