Rapidus zamierza wdrożyć 10 maszyn EUV do produkcji chipów 2 nm w Japonii

Rapidus, japoński producent chipów, planuje https://www.trendforce.com/news/2025/01/28/news-rapidus-reportedly-to-install-10-euv-machines-aiming-for-early-mass-production/ rapidus planuje wprowadzić 10 najnowocześniejszych systemów litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV) w swoich nowych zakładach produkcyjnych - posunięcie, które ma znacznie przyspieszyć zaawansowaną produkcję chipów w Japonii. Jak donosi Nikkan Kogyo Shimbun, dyrektor generalny Atsuyoshi Koike podzielił się planami dotyczącymi nadchodzących zakładów IIM-1 i IIM-2.

Sprawy nabrały tempa w grudniu 2024 r., kiedy to pierwsza maszyna do litografii EUV przybyła na lotnisko New Chitose - pierwsza w historii w Japonii. Zgodnie z harmonogramem firmy, Rapidus chce rozpocząć próbną produkcję 2 nm w IIM-1 już w kwietniu 2025 r., mając na celu wysłanie próbek chipów do amerykańskiego giganta półprzewodników Broadcom do czerwca.

Patrząc na moce produkcyjne, szacunki sugerują, że jeśli pięć narzędzi EUV będzie działać z maksymalną wydajnością, IIM-1 może przetwarzać od 17 000 do 20 000 wafli miesięcznie - zakładając około 20 warstw EUV w procesie produkcyjnym. Rapidus będzie korzystał ze skanera Twinscan NXE:3800E firmy ASML, który teoretycznie może przetwarzać do 220 wafli na godzinę przy dawce 30 mj/cm².

Z ambitnym celem masowej produkcji chipów 2 nm wyznaczonym na 2027rapidus wkracza na boisko pełne uznanych producentów. TSMC, na przykład, planuje rozpocząć produkcję chipów 2 nm w 2025 roku i ma już w kolejce głównych klientów, takich jak Apple, Nvidia, AMD i Qualcomm.

W międzyczasie Samsung również wykonuje ruchy, konwertując niektóre ze swoich linii produkcyjnych 3 nm do obsługi technologii 2 nm, przeprowadzając testy we współpracy z firmami takimi jak Nvidia i Qualcomm.