Samsung: litografia 7 nm pod koniec 2018
Tytułowy proces technologiczny to 7LPP (7nm Low Power Plus) i do uzyskania tak zaawansowanej litografii wykorzystuje EUV (extreme ultraviolet). Produkcja seryjna ma ruszyć w 2019 roku. Wcześniej, pod koniec 2018, zaczną pojawiać się krótkie serie tak przygotowanych układów scalonych.
W lokalnej prasie (koreańskiej) napisano też, że firma Samsung rozpoczęła pracę nad wykorzystaniem EUV przy produkcji pamięci DRAM. Prowadzone są prace nad litografią 1 Ynm, czyli czymś, co konkurencja (SanDisk na potrzeby pamięci NAND) ogłaszała w połowie 2013 roku. W przypadku Koreańczyków rozwiązanie to ma być gotowe do 2020 roku.
Źródło: Digitimes
