Samsung: litografie 6 nm, 5 nm i 4 nm
Koreańczycy z firmy Samsung pozazdrościli konkurencji z Tajwanu (firma TSMC) i przypomnieli sobie o potrzebie zachwalania własnych rozwiązań technicznych. Do prasy przekazano dość dokładne informacje nt. planów rozwojowych. Mowa w szczególności o harmonogramie dla litografii kolejnych generacji.
Najprościej i najczytelniej to wypunktować:
- litografia 7 nm: w produkcji seryjnej od kwietnia 2019 (krótkie serie w 2018),
- litografia 6 nm: ma wykorzystywać maszyny litografii 7 nm i sprowadzać się do optymalizacji procesu technologicznego,
- litografia 5 nm: krótkie serie w II półroczu 2019 a produkcja seryjna na początku 2020,
- litografia 4 nm: w laboratorium ma to działać już pod koniec 2019 roku.
Z powyżej zaprezentowanych danych płynie wniosek, że w firmie Samsung przyjęto agresywną strategię nastawioną na zdobywanie nowych rynków i przewag nad konkurencją. Na wzór firmy TSMC (walczą o tych samych klientów) postawiono na łatwy odbiór działań marketingowych (układy scalone wytworzone w kolejnych z rzędu litografiach różnią się od siebie w niewielkim stopniu; nie jest to przełom w walce z prawami fizyki). Wszelkie współczesne korzyści płyną ze stosowania techniki EUVL (extreme ultraviolet lithography) i ma ona być w powszechnym użyciu od 2020 roku.
Niemniej to co wypunktowałem należy odebrać pozytywnie. Znaczy to tyle, że zapotrzebowanie na elektronikę użytkową nadal jest duże a badania i rozwój (R&D) są wciąż finansowane.
Źródło: AnandTech
