TSMC: procesy N7P i N5P
W firmie TSMC rozbudowano ofertę o odpowiedniki procesów technologicznych N7 (litografia 7 nm DUV) i N5 (litografia). Mowa o wariantach performance-enhanced, które uzyskały oznaczenia N7P i N5P.
To, co wyżej, wiąże się z wydajnością wyższą o 7% przy tym samym poborze mocy lub ze zbiciem poboru mocy o 10% przy zachowaniu tych samych zegarów. Takie manewry są możliwe dzięki technikom określanym mianem FEOL (front-end-of-line) i MOL (middle-end-of-line).
Tytułowe rozwiązanie techniczne zostało omówione na konferencji branżowej o nazwie VLSI 2019 (Kioto, Japonia).
Źródło: AnandTech
